手机:15050208116 电话:0512-58548729

工业铝通发国际娱乐城

新闻中心

首页 > 新闻中心

6061通发国际官网瓷质阳极氧化工艺研究实验结果与讨论(二)

氧化电压对氧化膜的影响

根据上阶段的实验结果,固定氧化时间为40 min,讨论氧化电压对膜层外观及性能的影响。电压选择从80 V到120 V。氧化温度同样恒定在40℃ 。

从图7及图8中可以看出:随着氧化电压的升高膜层也越来越厚,但从硬度与电压关系曲线中发现,硬度先上升后下降,在电压为90 V时硬度最高,其值为285 HV。硬度先上升的原因在于电压的升高提高了生长速率,使得膜层更加致密,之后硬度下降是由于膜层表面因电压过高产生大量的焦耳热使得膜层变得疏松,且可从产品表面可发现,在电压为120 V时膜层表面明显出现粉化现象。

图7图8

从图9及图10中可以看出:随着电压的升高,光泽越来越低,而L值越来越高。G值降低的原因在于膜层表面出现了粉化,电压越高粉化越严重。L值反而上升的原因应该在于氧化膜的纳米孔分支越来越多。

图9

图10

结论

本瓷质阳极氧化实验以草酸钛钾、草酸、硼酸及柠檬酸为电解液,探讨了氧化电压、时间及温度对氧化膜外观和性能的影响。通过验证得到最佳工艺条件为:氧化温度为40℃ 、时间为40 min、电压为100 V,该条件下制备的膜厚为27μm,硬度为279 HV,L值为79,G值为12。

上一页:6061通发国际官网瓷质阳极氧化工艺研究实验结果与讨论(一)

下一页:高强度通发国际官网的介绍和发展现状

推荐产品

©  张家港市八方铝业有限公司 版权所有
博评网